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Validation amont de la gravure

Industrie et  Technologies
Calibre OPCverify de Mentor Graphics


Mentor Graphics annonce la disponibilité de l'outil Calibre OPCverify. Celui-ci marque le début d'une nouvelle génération de technologie OPC (Optical Proximity Correction) et étend la gamme des solutions de conception en vue de la fabrication (DFM, design for manufacturing) de Mentor.

Il répond en outre au défi de gestion des impacts dramatiques de la ?variabilité des processus? sur le rendement. Ceci est particulièrement vrai dans le processus lithographique où la variabilité représente un risque pour la fidélité des images, même lorsque les conditions d'exploitation du système lithographique (fenêtre des processus lithographiques) sont acceptables. Afin de réduire le risque de défaillance des puces, d'éviter les coûteuses reprises de conception et de garantir un rendement acceptable, Calibre OPCverify détecte les erreurs ou marginalités lithographiques dues à la variabilité des processus avant que la conception ne soit transférée au fabricant des masques ou des tranches de silicium.

La complexité croissante des technologies d'amélioration de la résolution (RET) à 65 nanomètres a plusieurs impacts sur le rendement lithographique. Les principaux facteurs contribuant à son déclin sont :
  • réduction de la fenêtre des processus lithographiques ;
  • sensibilité accrue à la topologie du layout dans le processus lithographique ;
  • complexité des contraintes des règles de masques affectant l'application de RET.
Seule une solution de vérification RET rapide, précise et simple qui détecte les conditions limitant le rendement peut résoudre ces problèmes.

Calibre OPCverify, qui utilise les modèles de simulation sophistiqués de Calibre OPCpro, représente la nouvelle génération de vérification RET, assurant 100 % de la simulation de la puce entière afin de garantir le respect de la configuration prévue. Le moteur de simulation Calibre OPCverify s'appuie sur des algorithmes brevetés de définition des conditions (dose, localisation) qui ont un impact négatif sur le transfert des modèles pour expliquer les effets de la variabilité des processus. Toutes les fonctions de modélisation de Calibre OPCverify ont été conçues pour faire face aux conditions de fabrication les plus avancées, notamment la lithographie par immersion. La méthodologie stricte de développement et de vérification des modèles de l'outil Calibre OPCverify lui permet de répondre aux exigences en matière de validation RET et de vérification des masques.

L'installation et la configuration de Calibre OPCverify s'effectuent via une interface utilisateur appelée Calibre Verification Center. Ensemble, Calibre OPCVerify et Calibre Verification Center permettent d'intégrer, de façon transparente et en moins de 24 heures, un flot complet et précis de vérification des masques RET aux flots post-layout existants.

Grâce au tandem Calibre OPCverify / Calibre Verification Center, les outils utilisent le matériel existant de façon optimale. En associant la puissance de calcul élevée disponible sur les stations de travail actuelles à la fonctionnalité de traitement simultané de Calibre MTflex, la vérification RET de la totalité de la puce s'effectue extrêmement rapidement. En outre, l'indépendance de l'outil par rapport à la conception se traduit par des temps d'exécution très prévisibles et une excellente évolutivité. Tandis que le temps d'exécution réel dépend du matériel utilisé, le simulateur de Calibre OPCverify (supportant des terapixels) peut gérer des centaines de processeurs et traiter des données linéaires ou hiérarchiques.

Jean-François Prevéraud

Pour en savoir plus:
http://www.mentor.com/ 

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