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Une source "UV extrême" pour la lithographie

J.-C. G.

- L'Allemand Microliquids a mis au point une source lumineuse à 13,5 nm de longueur d'onde plus homogène que les plasmas habituels.

Programmée pour rentrer dans les usines de circuits intégrés dans quelques années, lorsque la finesse de gravure descendra sous les 50 nm (contre 90 nm aujourd'hui), la lithographie dite UV extrême (EUV) butte sur plusieurs obstacles. L'un d'eux concerne la disponibilité des sources lumineuses ad hoc, à 13,5 nm de longueur d'onde, en lieu et place des sources actuelles à 193 nm.

Fondée en juillet 2003 par des scientifiques allemands du Max Planck Institut de Göttingen, la start-up Microliquids envisage d'arriver sur ce marché dès l'année prochaine avec une technologie originale.

 

Un "fil" de xénon liquéfié

 

Au lieu d'utiliser un gaz, la solution Microliquids met en oeuvre une cible constituée d'un très mince "fil" de xénon liquéfié (10 à 100 µm de diamètre) pouvant atteindre 100 mm de longueur. Après avoir été extraite d'une buse à haute pression (5 à 50 bars), cette cible est frappée par un laser Nd :Yag à 532 nm de longueur d'onde. Elle réémet alors à la longueur d'onde souhaitée.

Avantage : « cette source rayonne de façon uniforme dans toutes les directions, ce qui n'est pas le cas des autres plasmas », explique Microliquids. La stabilité en longueur d'onde est elle aussi améliorée et correspond mieux aux exigences de la lithographie EUV, entre autres celle d'une erreur limitée à 1 nm (valeur efficace) sur la position du front d'onde gérée par l'optique. Grâce à un rendement de conversion très élevé (mais non précisé), ce "fil" devrait aussi pouvoir délivrer des puissances plus élevées que les sources concurrentes.

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