Un procédé de dépôt de silicium noir par couches atomiques successives permet d'obtenir un revêtement améliorant significativement la capacité d’absorption lumineuse de surfaces en silicium, tout en les rendant plus résistantes à la corrosion, selon une équipe de physiciens de l’université d’Aalto, en Finlande.
Découvert dans les années 1990, le silicium noir présente de nombreuses aspérités nanométriques qui piègent la lumière plus efficacement. Jusqu’ici, les procédés mis en jeu pour créer ces aspérités ne donnaient pas de[…]
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