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Un logiciel dédié au micro-usinage chimique

M. L. T.

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L'OUTIL DE CAO TENSOSIM conçu à l'ENSMM à Besançon s'applique à l'usinage de matériaux pour l'électronique.

Le micro-usinage chimique des monocristaux est utilisé en microtechnique pour la fabrication de dispositifs constituant les éléments sensibles de capteurs ou de résonateurs. L'attaque chimique étant gouvernée par l'orientation du cristal (on parle alors de micro-usinage anisotrope), ce procédé donne accès à des formes et des dimensions reproductibles. Cette technique est actuellement mise en oeuvre sur des cristaux de silicium et de quartz, mais elle pourrait être étendue à d'autres monocristaux comme le germanium, l'arséniure de gallium ou l'antimoniure d'indium.

 

Même pour le micro-usinage double face

 

C'est dans ce cadre qu'au laboratoire de chronométrie électronique et piézoélectricité de l'École nationale supérieure de mécanique et des microtechniques (ENSMM, à Besançon, Doubs), Colette Tellier a développé le logiciel de CAO Tensosim. Cet outil prend en compte des masques d'une forme quelconque déposés sur des lames de toutes orientations. Il permet ainsi d'explorer les divers problèmes techniques relatifs au micro-usinage chimique comme la dégradation des états de surface, formation de plans bloquants, sous-gravures. Le logiciel Tensosim permet en outre d'optimiser la forme et les dimensions de masques dits de compensation. Autre atout, cet outil aide à reconstituer et expliquer les défauts de formes et les écarts de dimensions de structure résultant d'une légère erreur d'alignement du masque. Une autre application envisagée est le micro-usinage double face.

« Actuellement, nos recherches se focalisent notamment sur l'usinage de l'arséniure de gallium, précise Colette Tellier. Ainsi, la caractérisation de l'anisotropie de l'attaque chimique du monocristal d'AsGA par différents types de bains est à l'étude. À terme, ce logiciel devrait permettre d'explorer toutes les possibilités de microfabrication de structures 3D dans divers plans d'arséniure de gallium. »

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