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Un film de quartz sur silicium obtenu par la chimie douce

Sophie Eustache

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Un film de quartz sur un support de silicium, intégrant des caractéristiques indispensables pour la microélectronique, a été obtenu par des chercheurs du Laboratoire de chimie de la matière condensée de Paris, (CNRS, Collège de France et l’UPCM), en collaboration avec l’institut des matériaux de Barcelone et l’institut Laue-Langevin de Grenoble. Difficile à purifier et à nanostructurer, le quartz, - espèce minérale composée de silice -, peut être appliqué à la microélectronique grâce à ses propriétés piézoélectriques, c’est-à-dire sa capacité à produire une charge électrique sous l’effet d’une contrainte mécanique.

"La polymérisation de précurseurs moléculaires par chimie douce  permet d’obtenir de[…]

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