Des motifs de moins de cinquante nanomètres peuvent être imprimés sur des surfaces de 15 centimètres de large, sans créer de défauts, grâce à un outil développé par Suss Microtec et Philips. Il se destine à l’industrie du semi-conducteur, pour la fabrication de LED, de cellules photovoltaïques ou de lasers infrarouges VCSEL.
Au lieu du moule rigide utilisé traditionnellement pour l’obtention de nanomotifs, l’outil de Suss Microtec, baptisé SCIL, pour Substrate Conformal Imprint Lithography, repose sur un moule flexible en silicone PDMS (polydiméthylsiloxane), ce[…]
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