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Une plate-forme pour la conception nanométrique

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Encounter de Cadence Design System

La diminution des niveaux de gravure des circuits intégrés, qui franchissent maintenant la barrière des 0,10 µm ou 100 nm, jointe à l'augmentation de leur fréquence d'horloge posent de nouveaux problèmes aux concepteurs.

Ainsi, dans les circuits 'nanométriques', les retards imputables aux longueurs des pistes gravées dans le silicium deviennent prépondérants face aux retards induits par les portes elles-mêmes.

De même, l'augmentation des hauteurs relatives des pistes par rapport à la distance les séparant créé des phénomènes de diaphonie grandissant entre les pistes voisines. Le routage des pistes devient donc crucial afin de limiter ces effets parasites. 

C'est pour répondre à ces attentes que Cadence Design Systems vient de présenter la plate-forme Encounter. Il s'agit d'une architecture unifiée qui regroupe autour d'un même modèle de données et d'une interface unique les savoir-faire issus de Cadence (CeltIC et Silicon Ensemble), avec ceux de Cadmos Design Technology, Plato Design Systems et Silicon Perspective, trois sociétés spécialisées achetées par Cadence durant les 18 derniers mois. 

Cette architecture permet d'aborder la conception d'un circuit par l'aspect routage des pistes (Wires First) dès la phase de prototypage virtuel, avant de lancer les classiques étapes de synthèse et d'analyse. Cela permet d'unifier le prototype virtuel et l'implantation détaillée des circuits nanométriques et de passer ainsi du RTL au GDS II. Les équipes de conception ont ainsi une vision permanente du projet par rapport à ses objectifs de performance. Ce que Cadence n'hésite pas à présenter comme la quatrième révolution de la conception électronique sous le nom de Continuous Convergence, qui vient après la saisie de schémas, le placement/routage et la synthèse. 

Cette architecture se décline dans deux logiciels Nano Encounter qui traite les projets non-hiérarchiques jusqu'à 10 millions de portes et Soc Encounter qui traite les projets hiérarchiques pouvant aller au-delà de 50 millions de portes. 

Cadence estime que cette nouvelle plate-forme devrait être utilisable pour des technologies de gravure descendant jusqu'à 70 voire 50 nm, soit aux alentours de 2006. 

Jean-François Prevéraud

Pour en savoir plus: Des dossiers (en anglais) consacrés à la conception nanométrique sur le site de Cadence à http://nanometer.cadence.com/

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