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Mentor Graphics rejoint Nano 2012

Ridha Loukil
Avec ce renfort, le programme de recherche en nanoélectronique, piloté par STMicroelectronics, complète l’écosystème nécessaire aux prochaines générations de puces électroniques.

Le programme Nano 2012 de recherche sur la nanoélectronique franchit une nouvelle étape. Après le renfort d’IBM puis d’ASML, il est rejoint par un autre acteur : l’américain Mentor Graphics, numéro trois mondial des outils d’automatisation de la conception électronique. Le partenariat a été annoncé lors du deuxième bilan officiel au programme de recherche Nano 2012 à Grenoble, les 15 et 16 mars 2010.

Lancé en janvier 2008 en prolongement du programme Crolles II, le programme Nano 2012 vise à créer à Crolles, près de Grenoble, un pôle de R&D de classe mondiale dans les technologies nécessaires aux prochaines générations de puces électroniques en gravure de 32, 28 et 22 nm. Piloté par STMicroelectronics, il associe notamment le CEA-Léti, IBM, ASML, l’Inria et le CNRS. Le budget s’élève à 2,3 milliards d’euros sur 5 ans, dont près de 500 millions de subventions publiques de l’Etat et des collectivités locales.

« Avec le CEA-Léti et IBM dans la recherche avancée, ASML dans les équipements de photolithographie et maintenant Mentor Graphics dans les outils de CAO électronique, nous couvrons désormais toute la chaîne depuis la conception des circuits intégrés jusqu’à la production », se félicite Jean-Marc Chéry, Chief Technology Officer de STMicroelectronics et président du programme Nano 2012.

« Grâce à notre collaboration avec STMicroelectronics et l’accès à son usine pilote de production à Crolles, l’une des plus avancées au monde, nous allons développer des outils adaptés à la conception de circuits en gravure de 32 à 20 nm », explique, de son coté, Gregory Hinckley, CEO de Mentor Graphics.

Mentor Graphics, qui dispose de deux centres de R&D en France, l’un à Meudon-la-forêt (92), l’autre à Montbonnot (38), va mobiliser 29 personnes sur 3 ans, dont 21 nouvelles embauches, à Crolles, pour Nano 2012. Le travail portera sur cinq domaines : modélisation et caractérisation ; extraction ; placement-routage ; lithographie complexe et conception de circuit de démonstration.

Ridha Loukil

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