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Le dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma à moindre coût

Sophie Eustache

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Trois nouvelles machines de fabrication PECVD (dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma) développées par Applied Materials devraient permettre de réduire les coûts tout en améliorant le contrôle de la qualité et la flexibilité du procédé de fabrication, explique le site ExtremeTech. La machine AKT55KS est un système de dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma (PECVD) conçu pour mieux contrôler la quantité d’hydrogène gazeux dans la[…]

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