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La correction optique des masques : La lumière dessine les bons motifs

Ridha Loukil
La correction optique des masques : La lumière dessine les bons motifs

Schéma de principe de la correction optique des masques

Les aberrations optiques liées à la propagation de la lumière UV utilisée pour insoler les circuits intégrés se traduisent par des différences entre les motifs sur le masque et ceux sur le circuit en silicium. Il faut donc procéder à des corrections pour tenir compte de ce phénomène. Faute de quoi le résultat obtenu serait mauvais.

À regarder de près, le dessin inscrit sur le masque utilisé pour insoler le circuit intégré ne correspond pas parfaitement à celui obtenu sur le silicium. Un carré parfait sur ce pochoir en verre se traduit par un carré aux bords et angles déformés sur le circuit. En cause, les aberrations optiques liées à la propagation de la lumière UV à 193 nm employée pour l’insolation du circuit.

La technologie OPC (Optical Proximity Correction) a la magie d’effacer ce problème. Elle consiste à dessiner un faux motif sur le masque qui, compte tenu des aberrations optiques, produira le bon motif sur le circuit. La géométrie à inscrire sur le masque est déterminée par calcul à l’aide d’un logiciel comme ceux proposés par Mentor Graphics ou Brion Technologies. L’opération OPC est d’autant plus laborieuse que le circuit à réaliser est complexe. STMicroelectronics utilise cette technologie sur son site de Crolles, près de Grenoble (Isère).

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