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IBM et Mentor veulent franchir la barrière des 22 nm

Industrie et  Technologies
Le fabricant de semi-conducteurs et l'éditeur d'outils de CFAO-Electronique vont mettre au point ensemble des outils rendant possible la fabrication de circuits en 22 nm et moins.


IBM et Mentor Graphics vont développer en commun des solutions de lithographie informatisée qui devraient permettre aux systèmes de fabrication de circuits intégrés actuels d'atteindre les générations 22 nanomètres et inférieures.

« Le cap des 22 nm représente un véritable défi pour l'industrie, car les approches traditionnelles de miniaturisation ne sont plus viables en raison des lois de la physique. Nous devons donc nous tourner vers des solutions de miniaturisation informatisées pour franchir ce nouveau cap et les suivants », explique Gary Patton, vice-président de la division microélectronique d'IBM.

En effet, la plupart des circuits intégrés sont fabriqués aujourd'hui en 45 nm, voire plus. Le passage à 22 nm représente un véritable défi, car il permettra de concevoir des circuits intégrés plus puissants, plus compacts et moins gourmands en énergie. Malheureusement, les procédés lithographiques actuels - qui consistent à concevoir des masques optiques pour graver en masse les différentes parties d'un circuit sur des petites plaquettes de silicium - ne sont pas adaptés à la gravure des couches stratégiques en 22 nm, en raison de limites physiques fondamentales.

La lithographie informatisée permet de s'affranchir de ces limites physiques au cours du processus de fabrication en utilisant des méthodes numériques pour modifier la forme des masques et les caractéristiques de la source lumineuse à chaque couche de circuit intégré. Ainsi, le résultat obtenu au terme de l'exposition est beaucoup plus proche des formes attendues. La correction de proximité optique (OPC) est un exemple bien connu de lithographie informatisée.

Les développements communs se feront autour de la plate-forme Calibre nmOPC de Mentor Graphics. « Ce partenariat est le prolongement logique de celui qui nous unit depuis que nous travaillons ensemble sur des solutions de correction des effets de proximité optique par simulation pour la génération 130 nm », explique quant à lui Joseph Sawicki, vice-président et directeur général de la division conception silicium de Mentor Graphics.

« Nous avons dépassé le cadre de la relation classique client-fournisseur de solutions de conception électronique, et nos efforts s'inscrivent désormais dans un véritable programme de recherche-développement, qui aura des retombées extrêmement intéressantes pour nos clients. Non seulement nous serons capables de résoudre des motifs à 22 nm, mais nous serons aussi à même de présenter des solutions innovantes pour contenir l'investissement que représente l'informatique en termes de temps de cycle et de coûts, ce qui est extrêmement important pour nos clients ».

Jean-François Prevéraud

Pour en savoir plus : http://www.ibm.com & http://www.mentor.com

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