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IBM brise la barrière des 30 nm pour la gravure de ses circuits intégrés

Industrie et  Technologies
Des chercheurs d'IBM ont annoncé la semaine dernière qu'ils avaient trouvé le moyen d'étendre le spectre d'un process de fabrication existant à des niveaux de gravure beaucoup plus petits. Une bonne nouvelle pour une industrie où le développement de nouve


Les scientifiques du  centre de recherches d'Almaden d'IBM ont réussi à créer les gravures de qualité les plus petites jamais réalisées en utilisant de la lithographie optique à base d'ultraviolets à 193 nanomètres - une technologie jusque là utilisée uniquement pour "tracer" les circuits sur le silicium.

Le niveau de gravure ainsi obtenu a été de 29,9 nanomètres, c'est à dire moins du tiers de la technologie 90 nanomètres qui entre en production de masse actuellement et nettement inférieur aux 32 nanomètres, qui étaient jusque là considérés par cette industrie comme la limite extrême des techniques de lithographie optique.

La course à la miniaturisation semble ainsi pouvoir se poursuivre selon la loi de Moore, même si l'on s'approche de plus en plus de la limite physique que constitue la barrière des molécules et des atomes.

« Nous allons essayer de repousser les limites de la lithographie optique aussi loin que possible afin de retarder le moment où nous serons obligés de passer au développement d'autres technologies que nous pressentons être excessivement chères à mettre au point », estimait Robert Allen, responsable des technologies de lithographie au centre de recherches d'Almaden d'IBM. « Grâce à notre découverte, nous pensons avoir reculé cette échéance d'au moins sept années ».

Jean-François Prevéraud

Pour en savoir plus : http://domino.research.ibm.com

 

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