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Lithographie : des faisceaux d'électrons plus rapides

- La gravure directe des puces par faisceaux d'électrons, souvent évoquée pour remplacer la lithographie optique mais jamais mise en pratique à l'échelon industriel, car trop lente, gagne en crédibilité. Toshiba et E-Beam ont en effet mis au point un appareil de gravure dix fois plus rapide que les matériels actuellement disponibles. Une telle solution permettrait aux industriels de se passer de masques optiques dans les cas où le nombre de puces produites suffit difficilement à les amortir.

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