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électronique L'informatique au secours de la lithographie

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- IBM et Mentor Graphics vont développer conjointement des solutions de lithographie informatisée pour la prochaine génération de puces électroniques en 22 nm. Actuellement, les puces les plus avancées sont gravées avec des motifs de 45 nm. Les procédés lithographiques actuels, basés sur des masques optiques, ne sont plus adaptés en raison des limites physiques. La lithographie informatisée s'affranchit de ces limites et modifie la forme des masques et les caractéristiques de la source lumineuse en cours de fabrication.

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