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Des lasers pour graver en 3D le silicium

Alexandre Couto

Modifier localement la structure d’un matériau massif à l’aide d’un laser femtoseconde, comme on sait le faire dans le verre ou dans les polymères, est désormais possible dans le silicium. C’est ce qu’ont démontré des chercheurs du laboratoire lasers, plasmas et procédés photoniques (LP3), du CNRS, ouvrant ainsi la voie à la réalisation de dispositifs 3D pour la photonique sur silicium.

Si les lasers femtosecondes permettent de créer des structures 3D à l’intérieur d’un bloc de verre ou de polymère, l’opération était jusqu'ici impossible avec un matériau comme le silicium.  La difficulté consistait à concentrer suffisamment l’énergie du faisceau laser au point du matériau que l’on veut modifier. Des équipes du laboratoire LP3 du CNRS et de l’institut grec des structures électroniques et des lasers (IESL-Forth) ont utilisé un laser femtoseconde pour[…]

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