Création d'interstices pour nanostructurer le silicium

Une technique de fabrication d’interstices de 1 nanomètre dans une plaque de silicium a été mise au point par des chercheurs de l’université du Minnesota. Elle ouvre la voie à la fabrication à grande échelle de nanostructures encore plus petites pour l’électronique ou l’optique.

Les chercheurs, dont l’étude est publiée dans la revue Nature, sont parvenus à percer des interstices de 1 nanomètre de large au travers de plaques de silicium. Ils ont utilisés pour cela des techniques de nanofabrication et un ruban adhésif. Ils ont d’abord déposé sur le substrat un film très fin (1 nanomètre) d’isolant (Al₂O₃) qui épouse des interstices plus larges déjà gravées dans la plaque en vue de la[…]